特色：

1.Nikon Eclipse LV150N可應用於各種上照光學對比技術（亮場-暗場-差分干涉對比-偏光-螢光-干涉測量）。配合數位成像配件和大型X-Y行程的工作台，這些儀器非常適合用於半導體和材料檢測活動。

2.從燈箱到目鏡，這些組件都是根據使用者的應用需求進行選擇。它們包括支架、工作台、物鏡、物鏡轉盤、光學頭、目鏡、數位相機、濾鏡和對比配件。

3.使用者可輕鬆操作顯微鏡和可調節角度的眼筒，使工作過程中免於疲勞。正向影像使材料、半導體和工業零件能夠被正確觀察。

特色：

1.ECLIPSE L300ND、L300N、L200ND和L200NA是一系列半導體顯微鏡，非常適合於集成電路（IC）、平板顯示器（FPD）、大規模集成（LSI）電子設備等檢測應用。

2.具有多種清晰的影像技術功能，包括高對比度、亮場、暗場、偏光（POL）、差分干涉對比（DIC）和雙光束干涉光學對比。

3.操作控制元件的最佳位置設置和可調節角度的鏡筒，讓操作者可以輕鬆進行工作。這款顯微鏡提供正確觀察原材料、半導體和工業零件的正向影像。

特色：

1.MM400/MM800工具顯微鏡專為所有工業測量和影像分析應用而設計，特別關注可重複的數據捕獲，並擁有簡單的用戶工作流程。

2.MM400/MM800工具顯微鏡具有高精度、可重複性以及準確的結果，在其長久的使用壽命中得以保證。這些儀器搭配廣泛的光學組件和配件，提供全面的支援。

3.投射的圖案能夠實現準確、可重複的對焦，以實現優異的Z軸測量。深度焦點變化所引起的誤差被最小化，多個操作者能夠達到相同的結果。